ACTUALITÉS  - Implants Génériques

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Mai 2020 - Nouveau !

Lisez le Protocole chirurgical pour l’implant Universal
compatible Tapered Screw-Vent ®*

Janvier 2020 : l'arrivée du réacteur à plasma pour décontaminer nos implants dentaires génériques

GIESSE  TECHNOLOGY et IGA ont de nouveau suivi leur penchant naturel pour la recherche de l'excellence en s'équipant d'un RÉACTEUR AU PLASMA, une nouvelle technique capable d'obtenir les meilleurs résultats à l'heure actuelle pour la décontamination de surface des implants dentaires.

Le processus de décontamination des implantssuivi parGIESSE TECHNOLOGY et IGA , a démontré son efficacité au fil des années. Il est performant pour la décontamination chimique de la surface, garantit l'élimination des scories de l'usinage comme le carbone et l'alumine (qui sont universellement considérés comme des causes possibles d'absence d'ostéointégration des implants).

Le processus traditionnel de décontamination utilise uniquement des agents de décontamination de type liquide, qui n'agissent cependant pas sur les contaminants organiques présents sur la surface des implants. Ces derniers ne peuvent être éliminés que par des éléments décontaminants de type gazeux, applicables à travers un processus électrochimique. C'est ce que permet le réacteur au plasma.

Il est équipé d'une chambre interne dans laquelle sont contenus les implants et où sont envoyés les ions du gaz inerte Argon à une haute puissance. Sous l'effet des "ondes de choc" d'ions, les particules organiques logées dans les rugosités de la surfaces sont elles aussi atteintes et éliminées.

Comme il'indique le rapport de l'analyse RT-PCR les valeurs obtenues sur les implants GIESSE TECHNOLOGY dans la l'absence d'agents contaminants pro-inflammatoires sur les surfaces, s'alignent sur celles des implants produits par une des marques les plus prestigieuses au niveau mondial.

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Avril 2019 : un nouveau packaging aux normes CE pour nos implants génériques

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